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更新时间：2026-01-12&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
浏览次数：2Nomura NMS Super Blubber WAC 超纯水带电防止装置该装置是日本野村微电子科技（Nomura Micro Science）专为半导体和FPD制造领域开发的超纯水电阻率精确控制系统，通过向超纯水中定量溶解二氧化碳气体来防止静电危害。核心工作原理通过直接注入式将高纯度二氧化碳精准溶解到超纯水中，形成碳酸根离子，将电阻率控制在0.11-1.9MΩ·cm范围内。这种方法能有效防止晶圆切割、清洗过程中的静电放电损伤，同时避免微粒子因静电吸附在晶圆表面，且烘干后二氧化碳挥发，无残留污染
主要技术规格
| 参数项 | 规格范围 |
| ----------- | ----------------------------------------- |
| 处理流量 | 200～1000L/h、200～2000L/h、300～3000L/h（三种规格） |
|控制电阻率范围 | 0.11～1.9 MΩ·cm |
| 控制精度 | 设定值±0.03 MΩ·cm（流量/水压稳定时） |
| 工作压力 | 0.5 MPa |
| 压力损失 | 3000L/h时仅0.06 MPa |
| 电源 | AC100～130V 或 AC220～240V，50/60Hz |
产物系列与尺寸1. 机架型（Rack type）尺寸: W480 × D430 × H250 mm特点: 可内置在清洗设备中，节省空间2. 机柜型（Cabinet type）尺寸: W430 × D430 × H1350 mm特点: 内置2个CO?气瓶，独立成套
核心优势? 直接注入式设计：无排气、无废水，环保经济? 快速响应：水量大幅变化时仍能迅速调整控制? 高精度控制：±0.03 MΩ·cm的稳定精度? 维护简便：内置阻抗探头，配管容易，可用3%双氧水杀菌? 高可靠性：无需昂贵的CO?溶解膜等耗材应用领域半导体晶圆划片/切割工序FPD（平板显示）高压清洗工程精密电子元件清洗制程任何需要防止超纯水静电危害的微电子制造环节
与传统技术对比相比早期气泡式或膜分离式技术，Super Blubber WAC采用直接注入溶解技术，避免了膜组件的损耗问题，大幅降低了运行成本，同时实现了更快的响应速度和更稳定的控制性能
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